吴汉明：一心为了“中国芯”（图）－科技之星－人物频道

详细内容_页头

联系我们邮箱登录通行证登录网站地图

设为首页加入收藏

当前位置：中工网－人物频道－科技之星－正文

吴汉明：一心为了“中国芯”（图）

//m.auribault.com 2014-10-09 来源：人民日报

分享到：

　　集成电路又称芯片，是工业生产的“心脏”，其技术水平和发展规模已成为衡量一个国家产业竞争力和综合国力的重要标志之一。由于起步较晚，中国集成电路产业远不能支撑市场需要。工信部数据显示，2013年我国集成电路进口达2322亿美元，多年来与石油一起位列最大的两宗进口商品。

　　2009至2014年，中芯国际先后宣布启动55纳米、40纳米和28纳米新工艺，成为中国芯片制造产业的三个里程碑。中芯国际集成电路制造（北京）有限公司技术研发副总裁吴汉明（见图。资料照片）就在这个领域长期耕耘着。在“十一五”国家重大专项中，吴汉明主持的“65—45—32纳米成套产品工艺研发”项目，堪称我国集成电路行业史上难度跨越最大的成套工艺研发项目。

　　1978年，吴汉明成为“文革”后我国首批硕士研究生，1987年在中科院力学所获得工学博士学位，1994年破格晋升为研究员，成为中科院当时最年轻的研究员之一。之后，他到美国加州大学伯克利分校做博士后，在加州诺发公司和英特尔任高级主任工程师，在外人看来，前途一片光明。然而，吴汉明2001年却选择回国，担任中芯国际技术研发中心先进刻蚀部总监，负责0.13微米刻蚀工艺部分，领导并直接参与了65—45—32纳米的产前工艺技术开发。当时，中国的芯片制造水平和国际水平相差10年。

　　“在做0.13微米的时候，中芯国际研发团队刚组建，需要从零开始，那是我们团队最辛苦的时候。每天起码都有14个小时在公司度过，有时要到凌晨一两点钟，第二天，该几点上班还是几点到。”回忆刚回国的那几年，吴汉明十分感慨。从130纳米，到90纳米，到65—45—32纳米，再到目前的28纳米，在吴汉明带领的中芯国际研发团队的不懈攻关下，中国芯片制造业与世界水平差距已缩减到3年。

　　为了应对中国芯片产业核心技术缺乏、企业融资成本高、产品难以满足市场需求等问题，国务院发布了《国家集成电路产业发展推进纲要》，这让吴汉明兴奋不已：“《纲要》的第一句就把这个产业定位为战略性、基础性、先导性的产业，1000多亿元的推行基金，对于产业来说虽然还不够，但我已经看到了曙光。”

　　在刚刚结束的第五届全国杰出专业技术人才表彰大会上，吴汉明获得了全国杰出专业技术人才称号。在吴汉明看来，这个荣誉是对整个研发团队的认可。“我有一个同仁，叫陈志豪，在做45纳米时，查出肺癌晚期，但他心态很好，还是在努力地工作；做65纳米时，我们项目负责人宁先捷博士，得了急性阑尾炎，在医院里做完手术躺了几天就‘逃’了回来，继续干活。”吴汉明说。

　　在国内外主流刊物和会议上发表论文100多篇；申报发明专利84项，其中24项是国际专利，有的成果还被世界著名高校的教科书收录……如今，60多岁的吴汉明已不再年轻。回看来时路，吴汉明非常淡然，“我没有什么太远大的理想，就是一个普通的中国人，想给国家做点事，就这么简单。”

编辑：王莹